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铜抛光液如何不使用铬酐和硝酸

发布日期:2021-11-15

铜件及其合金电镀之前,为了去除氧化皮或者增加光亮度,往往需要对铜件进行抛光处理。

    铜抛光液有三个体系:铬酐型,三酸型以及双氧水型,[敏感词]我们就逐个说明优缺点。

    一, 铬酐型。常见的铬酐型抛光液包含铬酐80克,硫酸300-450ml,盐酸,3-5ml,硝酸3-5毫升。光亮剂5-20克。优点是成本低,适合各种材质的铜,消耗量低,寿命长,无烟等。缺点就是铬酐污染大,致癌。

    二, 三酸型。常见的三酸型铜抛光包含硫酸45%,硝酸钠100克,盐酸5毫升,光亮剂2-5克。优点是抛光速度快,光亮,成本低。缺点是有黄烟,操作环境差。

    三, 双氧水型。此类铜抛光包含双氧水30%体积,硫酸5-10ml,光亮剂50-100毫升。优点是无烟,环保,操作环境好,对人体无害,适用于各种铜合金。缺点是消耗量略大,成本稍高,且寿命短。

    对于环保越来越严格的今天,双氧水型的抛光液一定会成为未来的趋势及主流,所以今天我们就重点讲讲双氧水铜抛光剂

    其实所有的抛光剂基本构成都类似,氧化剂,酸,缓蚀剂,渗透剂等。

    双氧水就是作为氧化剂的用途,对铜件表面进行再次氧化,使原本不均匀的氧化层变差更加均匀,这样当酸将氧化层去除的时候,就会得到均匀的底层,而不会出现腐蚀不均匀的状态。

    硫酸的作用就是保证抛光液的酸度,达到腐蚀的平衡。

    光亮剂的作用机理是缓蚀剂,使铜在酸性条件下不要过快腐蚀,保护凹处,腐蚀突起的部分,从而达到整平的作用。常见的缓蚀剂有硫脲,异硫脲及其衍生物,醚类等

    渗透剂的作用就是对于形状复杂的工件(凹槽,直角位等),降低表面的张力,使抛光液能与该位置的基材充分接触反应。

    现在双氧水抛光液的问题就是稳定性的问题,因为使用的时候需要温度维持在45-55度,且反应时候会升温,导致双氧水挥发,所以导致成本上升,寿命短。因此,好的双氧水的稳定剂就是关键,我们常用的EDTA, HEDP等,效果都不是很好,醚类和醇类效果稍好。可以作为[敏感词]。
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